Seto 1.67 Photochromic Lens SHMC

1) Co to jest powłoka spinowa?

Powłoka spinowa to procedura stosowana do składania jednolitych cienkich warstw na płaskie podłoża. Zwykle na środku podłoża nakłada się niewielką ilość materiału powłokowego, który albo wiruje z niską prędkością, albo w ogóle nie wiruje. Podłoże jest następnie obracane z prędkością do 10 000 rpm w celu rozprzestrzeniania materiału powłokowego przez siłę odśrodkową. Maszyna używana do powłoki spinowej nazywa się kołowrotkiem spinowym lub po prostu spinner.
Obrót jest kontynuowany, gdy płyn obraca się z krawędzi podłoża, aż do osiągnięcia pożądanej grubości filmu. Zastosowany rozpuszczalnik jest zwykle niestabilny i jednocześnie odparowuje. Im wyższa prędkość kątowa wirowania, tym cieńsza folia. Grubość filmu zależy również od lepkości i stężenia roztworu oraz rozpuszczalnika. Pionierska analiza teoretyczna powłoki spinowej została przeprowadzona przez Emslie i in., I została rozszerzona przez wielu kolejnych autorów (w tym Wilson i in., Którzy badali szybkość rozprzestrzeniania się w powłokie spinowej; oraz Danglad-Flores i in., Którzy znaleźli a stwierdzili a uniwersalny opis przewidywania osadzonej grubości folii).
Powłoka spinowa jest szeroko stosowana w mikrofabrykowaniu funkcjonalnych warstw tlenku na szklanych lub pojedynczych kryształowych podłożach przy użyciu prekursorów zol-żelowych, gdzie można ją użyć do tworzenia jednolitych cienkich warstw o ​​grubości nanoskali. [6] Jest intensywnie stosowany w fotolitografii, do osadzania warstw fotorezystów o grubości około 1 mikrometry. Fotorezist jest zazwyczaj wirowany przy od 20 do 80 obrotach na sekundę przez 30 do 60 sekund. Jest również szeroko stosowany do wytwarzania płaskich struktur fotonicznych wykonanych z polimerów.
Jedną zaletą cienkich warstw powlekania wirowania jest jednolitość grubości filmu. Ze względu na samopoziomowanie grubości nie różnią się więcej niż 1%. Jednak grubsze folii polimerów i fotorezystów powłoki spinowej mogą skutkować stosunkowo dużymi koralikami krawędziami, których planaryzacja ma ograniczenia fizyczne.